薄膜沉积设备（薄膜沉积设备概念股）

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本文目录一览：

• 1、求助薄膜沉积PECVD问题
• 2、在沉积薄膜时,突然断水,断电,各应怎样处理
• 3、薄膜沉积技术有哪些?

求助薄膜沉积PECVD问题

纯度要求：对于PECVD工艺，气体的纯度是很重要的，因为杂质会影响薄膜的质量和性能。硅烷和氮气都需要高纯度。通常要求硅烷的纯度在9999%以上，氮气的纯度在99999%以上。

调整沉积条件：可以适当降低PECVD沉积SiNx的沉积速率和气体压强，减少Mo/Cu金属薄膜表面的电荷密度。

不良的SiH4/NH3比例，在沉积过程中产生的SiH3，SiH2，SiH等离子基团在于硅片表面悬挂建的结合程度是不一样的，在选择好工艺气体比例后才能达到较好的钝化作用。

PECVD就是化学气相沉积法，是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。

在光伏领域，减反膜制备是制备多晶硅太阳电池过程中重要的环节之 一。氮化硅薄膜作为太阳电池减反膜主要是通过PECVD(等离子增强化学气相沉积)技术制备。

衬底表面，从而在其上形成外延薄膜。1PECVD：（plasma enhanced chemical vapor deposition）等离子体辅助化学气相沉积：在低压 化学气相沉积过程进行的同时，利用辉光放电等离子体对沉积过程施加影响的技术。

在沉积薄膜时,突然断水,断电,各应怎样处理

1、断电了就是镀膜失败，因为靶材要靠电来击穿，才能完成镀膜。断水了会导致真空泵和靶材烧坏~！镀膜完成抽真空可能是为了保护刚刚镀好的脆弱的膜层，防止高温下与空气中的气体反应，破坏膜层结构。

2、依法追究刑事责任；尚不构成犯罪的，依法给予处分；构成违反治安管理行为的，依法给予治安管理处罚。

3、其次，针对这种断水断电行为，可以从两个方面出发：可以通过自力救济的方式，如拨打市长热线，但效果不是很显著。

4、**预处理**：在某些情况下，可能需要对基底进行预处理，以改善薄膜的附着力和结构。预处理的方式包括等离子清洁、离子轰击、热处理等。

薄膜沉积技术有哪些?

1、电化学沉积：通过电化学过程在导电基材上沉积薄膜。电化学沉积的主要技术包括电镀、电解沉积等。 热处理法：通过高温氧化、硝化等热处理过程在基材表面生成氧化物、氮化物等薄膜。

2、薄膜制备方法包括物理气相沉积、化学气相沉积、溅射沉积、电泳沉积、喷涂沉积等。物理气相沉积：该方法使用强制热源将固体材料蒸发并沉积到基底上。

3、沉积技术在光学仪器（消反射膜，减反射膜，自清洁表面等）、电子技术（薄膜电阻，半导体，集成电路）、包装和现代艺术都有应用。在对薄膜厚度要求不高时，类似于沉积的技术常常被使用。

4、CVD（化学气相沉积）是一种薄膜制备技术，其原理是在适当的气氛中提供反应气体，使其在基底表面发生化学反应并沉积形成薄膜。

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